檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "李志偉".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="HiPIMS"
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藉由高功率脈衝磁控濺鍍系統(High power impulse magnetron sputtering;HiPIMS),搭載電漿放射監控儀(PEM)監控靶材在反應式鍍膜過程的毒化狀態。利用電漿C…
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高功率脈衝磁控式濺鍍(HiPIMS)是一種新興的鍍膜技術,由於結合了磁控濺射和高功率沈積技術的優勢,可以激發更大量的靶材離子,因此近年來受到了廣泛的應用。目前HiPIMS主要被限於利用在具有結晶的鍍…